拓荆科技:在中国建立世界领先的半导体薄膜设备公司

2017-09-14 来源:中国经贸导刊

沈阳拓荆科技有限公司是国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的12英寸PECVD设备企业。公司自2010年成立至今,已申请专利318项,其中发明专利220项,国际专利25项,已授权105项。形成了12英寸PECVD(等离子化学气相沉积设备)、ALD(原子层沉积设备)、3D NAND PECVD(三维闪存专用薄膜设备)的三个完整系列产品,广泛应用于集成电路、3D-TSV、光波导、LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域,打破了国际垄断,填补了多项国内空白。公司董事长姜谦介绍,拓荆公司不断占领市场的法宝,就是创新。产品已在中芯国际、长江存储、厦门联芯等国内主流集成电路生产线上得到批量应用。自筹资金开展研发的12英寸ALD设备,薄膜厚度的精确性可达到原子级,在半导体、医疗器材、新能源、军工等领域拥有广泛的应用前景。拓荆公司已成为国家集成电路产业战略布局中的一个关键技术企业,吸引了国家集成电路产业投资基金为首的战略投资总额达8.1亿元。拓荆公司未来的创新将继续与市场紧密互动,积极配合客户的应用拓展,在28nm及以下通用介质、非晶碳硬掩膜、三维闪存叠加层、ALD、14nm ULK/SiC等技术方面寻求突破,把握市场先机。◆